1. 鍍膜的原理
鍍膜早隱主要是為了減少反射。為了提高鏡頭的透光率和影像的質量,在現代鏡頭製造工藝上都要對鏡頭進行鍍膜。鏡頭的鍍膜是根據光學的干涉原理,在鏡頭表面鍍上一層厚度為四分之一波長的物質(通常為氟化陸悄廳物),使鏡頭對這一波長的色光的反射降至最低。顯然,一層膜只對一種色光起作用,而多層運嫌鍍膜則可對多種色光起作用。多層鍍膜通常採用不同的材料重復地在透鏡表面鍍上不同厚度的膜層。多層鍍膜可大大提高鏡頭的透光率,例如,未經鍍膜的透鏡每個表面的反射率為5%,單層鍍膜後降至2%,而多層鍍膜可降至0.2%,這樣,可大大減少鏡頭各透鏡間的漫反射,從而提高影像的反差和明銳度。
2. 鍍膜的方法有真空鍍膜和光學鍍膜,他們之間原理有什麼區別呢
1、真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面,它是以真空技術為基礎,利用物理或化學方法,並吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術,為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝.簡單地說,在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射,使其在被塗覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固並沉積的方法.
2、光的干涉在薄膜光學中廣泛應用.光學薄膜技術的普遍方法是藉助真空濺射的方式在玻璃基板上塗鍍薄膜,一般用來控握鬧制基板對入射光束的反射率和透過率,以滿足不同的需要.為了消除光學零件表面的反射損失,提高成像質量,塗鍍一層或多層透明介質膜,稱為增透膜或減反射膜.
隨著激光技術的發展,對膜層的反射率和透過率有不同的漏行要求,促進了多層高反射膜和寬頻增透膜的返皮嘩發展.為各種應用需要,利用高反射膜製造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等.光學零件表面鍍膜後,光在膜層層上多次反射和透射,形成多光束干涉,控制膜層的折射率和厚度,可以得到不同的強度分布,這是干涉鍍膜的基本原理.